光清洗设备生产商/光清洗设备采购商机/国达供应
产品规格
设备名称 放电管功率 最大照射范围
试验用表面光清洗性设备 40-200W 最大200×200mm
量产用超精密光清洗设备 40-1000W×管数 最大宽1500mm
液晶显示元件光清洗设备 40-1000W×管数 最大宽1500mm
半导体晶片超精密清洗设备 40-200W×5 最大φ500mm
半导体晶片超精密灰化设备 40-200W×5 最大φ500mm
产品特点
◇ 大气中处理，简单方便，环保无二次污染，无需加热、药液等处理。
◇ 清洁度极高，单分子层以下，可以得到其它处理方法难以达到的清洁度、接着性。
◇ 国内独有的超高出力短波长紫外线光源，仅需短时间（秒单位）照射，发挥强大的处理能力。
◇ 不对材料的表面产生损伤。
◇ 相对于湿式清洗成本低。
◇ 没有液体表面张力的影响，超微细部的清洗容易。
产品应用
1 液晶表示元件基板 2 记忆盘片 3 IC基板 4 压电元件
5 IC外装材 6 微电容器件 7 水晶振动子 8 石英玻璃
9 光学器件 10 磁头及其挂钩件 11 半导体晶片 12 各种塑料表面
13 各种金属表面 14 各种橡胶 15 各种玻璃 16 各种陶瓷表面……等等
各种固体表面除被清洗外，多种材料表面还被改性的表面具有更强的接着性能
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