砷化镓铟微光显微镜(InGaAs)与微光显微镜(EMMI)其侦测原理相同,都是用来侦测故障点定位,寻找亮点、热点(Hot Spot)的工具,其原理都是侦测电子-电洞结合与热载子所激发出的光子。差别在于InGaAs可侦测的波长较长,范围约在900nm到1600nm之间,等同于红外线的波长区 (EMMI则是在350nm-1100nm)。

宜特建置Double side Probe station,可节省样品备制的时间与成本。

InGaAs与EMMI的应用雷同,但比 EMMI多了以下优点
侦测 缺点(Defect)时间比 EMMI 短 5 ~ 10 倍。
可侦测到微小电流及先进制程的缺点(Defect)。
可侦测到较轻微的 Metal Bridge。
针对 芯片 背面(Back-side)的定位分析,红外光对硅基板穿透率较高。
会产生亮点、热点(Hot Spot)的缺点
接面漏电(Junction Leakage)
Contact Spiking
热电子效应(Hot Electrons)
闩锁效应(Latch-Up)
闸极氧化层缺点或漏电(Gate Oxide Defects / Leakage -F-N current)
多晶硅的细丝残留 (Poly-silicon Filaments)
硅基底损伤( Substrate Damage)
机械性损伤(Mechanical Damage)
及接面崩溃( Junction Avalanche)等
原来就会有的亮点、热点(Hot Spot)
饱和区操作中的BJT或MOS(Saturated or Active Bipolar Transistors /Saturated MOS)
动态式CMOS (Dynamic CMOS)
二极管顺向与逆向偏压崩溃 (Forward Biased Diodes /Reverse Biased Diodes Breakdown)
不会出现亮点的故障
奥姆或金属的短路(Ohmic Short及Metal Short)
亮点被遮蔽之情况
埋入式接面的漏电区(Buried Junctions)
金属线底下的漏电区(Leakage Sites Under Metal)
InGaAs因镜头旋转角度限制,相当多架4只针座(4支探针)于平台上,产品高度需低于10 cm,需完全暗房操作,不可有发光组件,且不适用产品于加热状态下进行实验。
关于宜特:
iST始创于1994年的台湾,主要以提供集成电路行业可靠性验证、材料分析、失效分析、无线认证等技术服务。2002年进驻上海,全球现已有7座实验室14个服务据点,目前已然成为深具影响力之芯片验证第三方实验室。
服务热线:8009880501 http://www.istgroup.com