您所在的位置:首页 » 新闻 » 宜特检测InGaAs显微镜检测

宜特检测InGaAs显微镜检测

文章来源:http://www.istgroup.com 上传时间:2017-11-02浏览次数:
文章摘要:砷化镓铟微光显微镜(InGaAs)砷化镓铟微光显微镜(InGaAs)与微光显微镜(EMMI)其侦测原理相同,都是用来侦测故障点定位,寻找亮点、热点(HotSpot)的工具,其原理都是侦测电子-电洞结合与热载子所激发出的光子。差别在

砷化镓铟微光显微镜 (InGaAs)

砷化镓铟微光显微镜(InGaAs)与微光显微镜(EMMI)其侦测原理相同,都是用来侦测故障点定位,寻找亮点、热点(Hot Spot)的工具,其原理都是侦测电子-电洞结合与热载子所激发出的光子。差别在于InGaAs可侦测的波长较长,范围约在900nm到1600nm之间,等同于红外线的波长区 (EMMI则是在350nm-1100nm)。


blob.png


iST 宜特服务优势

宜特建置Double side Probe station,可节省样品备制的时间与成本。

blob.png

InGaAs与EMMI的应用雷同,但比 EMMI多了以下优点

  • 侦测 缺点(Defect)时间比 EMMI 短 5 ~ 10 倍。

  • 可侦测到微小电流及先进制程的缺点(Defect)。

  • 可侦测到较轻微的 Metal Bridge。

  • 针对 芯片 背面(Back-side)的定位分析,红外光对硅基板穿透率较高。

侦测的到亮点、热点(Hot Spot)情况
  1. 会产生亮点、热点(Hot Spot)的缺点

    • 接面漏电(Junction Leakage)

    • Contact Spiking

    • 热电子效应(Hot Electrons)

    • 闩锁效应(Latch-Up)

    • 闸极氧化层缺点或漏电(Gate Oxide Defects / Leakage -F-N current)

    • 多晶硅的细丝残留 (Poly-silicon Filaments)

    • 硅基底损伤( Substrate Damage)

    • 机械性损伤(Mechanical Damage)

    • 及接面崩溃( Junction Avalanche)等

  2. 原来就会有的亮点、热点(Hot Spot)

    • 饱和区操作中的BJT或MOS(Saturated or Active Bipolar Transistors /Saturated MOS)

    • 动态式CMOS (Dynamic CMOS)

    • 二极管顺向与逆向偏压崩溃 (Forward Biased Diodes /Reverse Biased Diodes Breakdown)

侦测不到亮点、热点(Hot Spot)情况
  1. 不会出现亮点的故障

    • 奥姆或金属的短路(Ohmic Short及Metal Short)

  2. 亮点被遮蔽之情况

    • 埋入式接面的漏电区(Buried Junctions)

    • 金属线底下的漏电区(Leakage Sites Under Metal)

InGaAs因镜头旋转角度限制,相当多架4只针座(4支探针)于平台上,产品高度需低于10 cm,需完全暗房操作,不可有发光组件,且不适用产品于加热状态下进行实验。


关于宜特:

iST始创于1994年的台湾,主要以提供集成电路行业可靠性验证、材料分析、失效分析、无线认证等技术服务。2002年进驻上海,全球现已有7座实验室14个服务据点,目前已然成为深具影响力之芯片验证第三方实验室。

 服务热线:8009880501   http://www.istgroup.com 

显微镜 (InGaAs)