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双束聚焦离子束样品制备(Dual-beam FIB)：
iST宜特建置业界相当高阶FEI Helios 450S机台及FEI Helios 600机台，采三班制24小时运作，提供客户快速交期的高质量服务。
Dual-beam FIB机台能在以离子束切割样品时，同时用电子束对断面进行观察。宜特所建置的业界相当高阶机台，具备超高分辨率的离子束及电子束。能针对样品中的微细结构进行奈米尺度的定位及观察，大幅提升失效分析及TEM样品制备的成功率与影像质量。
双束型聚焦离子束显微镜的应用，主要以下列所述为主：
半导体组件故障分析(能力可达20nm高阶制程)
半导体生产线制程异常分析
磊晶与薄膜结构分析
电位对比测试
穿透式电子显微镜试片制作
奈米级结构制作
关于宜特：
iST始创于1994年的台湾，主要以提供集成电路行业可靠性验证、材料分析、失效分析、无线认证等技术服务。2002年进驻上海，全球现已有7座实验室12个服务据点。目前已然成为深具影响力之芯片验证第三方实验室。
免费咨询电话8009880501
双束聚焦离子束样品制备(Dual-beam FIB)
